【掲載：2022年1月10日】高速パルススパッタリングの最新応用展開；AlN系圧電膜から近赤外用高屈折率a-Si:H膜、そしてエピ成長Ⅲ族窒化膜へ

関係者各位

（株）サーフテックトランスナショナルは、一般般社団法人光融合技術協会及びイノベーションヒルズ（株）との共催で、2021年9月30日（木）16:00～17:30に、フラウンホーファーFEPが開発を進めている“高速パルススパッタリングの最新応用展開；AlN系圧電膜から、近赤外用高屈折率a-Si:H膜,そしてエピ成長Ⅲ族窒化膜へ”に関するセミナーを開催しました。

　フラウンホーファーFEPは20年以上にもわたって高速反応性パルスマグネトロンスパッタリングによる酸化膜や窒化膜の作成技術開発（特に大面積化と高速化によるコストダウン）において世界をリードしてきました。そして、最近の光学及びオプトエレクトロニクス用高品質膜の需要増に合せ、高度C軸配向AlN膜やAlScN膜、近赤外及び赤外域の光学フィルター向けの高屈折率膜（a-Si:H他）などの作成技術の開発を進めてきました。

　そこから次の技術進化としてスパッタエピタキシー技術の検討を開始しました。GaNに代表されるⅢ族窒化物パワーエレクロニクスが、大量消費市場へ移行しつつある中、製造メーカーはエピタキシー成膜のコスト低減と生産性向上を望んでいますが、現行のOMVPE（有機金属気相エピタキシー）では、対応が難しくなりつつあります。そのような状況下、FEPはスパッタエピタキシーによるⅢ族窒化膜の大面積・低コスト・量産技術の実現を目指しています。ここでは、それらの最新開発状況を紹介しました。

セミナーの開催情報

■講演日時：2021年9月30日（木）

　　　　　　15:30～16:00受付（入室）、16:00～17:10講演、17:10～17:30　質疑応答、議論

■講演者　：Dr. Alexander Martin Hinz, Fraunhofer FEP

■講演タイトル：“Latest application development of high rate pulse sputtering; From piezoelectric AlN  to high refractive index a-Si:H film for NIR and epitaxy grown Ⅲ-nitrides (高速パルススパッタリングの最新応用展開；AlN系圧電膜から近赤外用高屈折率a-Si:H膜、そしてエピ成長Ⅲ族窒化膜へ)“

■お知らせ：光融合技術協会会員企業の方には、技術相談窓口を設け、また過去のセミナーの講演資料を会員コーナーにアップロードしております。これを機に是非とも入会お願いいたします。詳しくは下記URLのホームページをご参照お願いいたします。https://www.i-opt.org/

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