新 欧州発 表面処理関連技術 最前線レポート:21年1月号の記事の一部を無料で公開
■タイトル:「気相脱合金法によるLi 電池用多孔質Si 薄膜アノードの作成」
※ 記事の続きは共有可能ですので、弊社までお問合せをお願いします(お問合せ先は以下をご参照ください)。また、日刊工業新聞の「工業材料」の雑誌で見ることが可能です。
■著者:
・ 鈴木巧一、㈱サーフテックトランスナショナル 兼フラウンホーファーFEP 日本代表
・ S. Saager、フラウンホーファーFEP Fraunhofer Institute of Organic Electronics, Electron Beam, and Plasma Technology( FEP), Winterbergstrasse 28, 01277 Dresden, Saxony, Germany
■記事のあらすじ:
以前、本誌にて、次世代電池の開発を進めているドイツ、フラウンホーファーのバッテリーアライアンスのメンバーであるフラウンホーファーFEPの次世代Li電池用ロールツーロール(R2R)式成膜技術全般を紹介した1)が、今回はその後に開発された超高速真空Si&Zn共蒸着(>100nm/s)と後加熱脱Zn処理を組み合わせた彼らが“気相脱合金法”と呼ぶ手法による多孔質Siアノード形成技術2)を紹介する。
お問合せ:
(株)サーフテックトランスナショナル代表
一般社団法人光融合技術協会理事
フラウンホーファーFEP日本代表
鈴木巧一
TEL : 090-5757-9981
E-mail: koichisuzuki@surftech.co.jp
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