【開催:2024年3月29日(金)】最新成膜技術「HiPIMS」に関する(実)セミナーの開催案内

 2024年3月29日(金) 最新成膜技術“HiPIMS”に関する(実)セミナー@東京都立大学、日野キャンパスの開催案内

 

 一般社団法人光融合技術協会主催で、2024年3月29 日(金)14:00~、東京都立大学、日野キャンパスにて、今話題の最先端成膜技術“HiPIMS”に関する(実)セミナーを開催します。

 

 HiPIMSとは、High power impulse magnetron sputtering(高出力インパルスマグネトロンスパッタリング)のことであり、10%未満の低デューティサイクルで数十マイクロ秒の短いパルスでkW⋅cm⁻²のオーダーの非常に高い電力密度をスパッタターゲットに投入することで、スパッタ膜の膜質改善効果(例えば、緻密化、プラスチックへの高付着強度、高耐久ITO膜、高屈折率TiO2膜など)を得る方法であり、近年、世界中で注目されている技術です。

 

 今回の講演者は、HiPIMSに関する研究開発を国際的な協力体制の下で精力的に進めている東京都立大学、システムデザイン学部、機械システム工学科、薄膜プロセス工学研究室の清水徹英准教授と、プラズマ分光分析の専門家で、HiPIMSプラズマ研究も精力的に進められてきた元ベルギーMons大学所属、現名古屋大学、低温プラズマ研究センター准教授のDr.Nikolay Britunであり、加えて、オンラインになりますが、ベルギーの非営利技術開発機関であるMateria NovaのDr.Adirano Panepintoです。

 

清水徹英教授のプロフィール:

 

・2020年4月から東京都立大学システムデザイン学部の准教授。また、2015年からスウェーデンのリンショピング大学の物理学、化学、生物学部門の訪問科学者でもある。

 

・主な研究分野は、遷移金属窒化物および酸化物コーティングの表面工学であり、特に高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)による低温成長に焦点を当てている。

 

・具体的には、時間変化するプラズマ物理の理解に基づくHiPIMSプロセスの設計が、時間分解能を持つOESや質量分析研究など、いくつかのプラズマ診断ツールを使用して注目されている。

 

・最近では、プロセス開発が中空陰極スパッタリングを使用した金属ナノ粒子の合成にも拡張されている。

 開催について

・講演日時:2023年12月15日(金)13:00~16:00
・開催場所:〒191-0065 東京都日野市旭が丘6-6、東京都立大学 日野キャンパス 6号館 203講義室

 www.tmu.ac.jp/campus_guide/map.html

 

 

 

セミナーへの参加のお申込みについて

・参加申込方法:参加希望者は、本ページ末尾の申込表(エクセル)に必要事項を記入の上、小野までお送りください。
・参加申し込み先:一般社団法人光融合技術協会 理事 小野明 akira.ono1257@gmail.com

・参加費:光融合技術協会会員企業 無料 参加人数制限無し。非会員(一般)8,000円/人。
・申し込み期限:2024年3月27日

・振込先:参加申込者に振込先をお知らせいたします。
・特典:参加いただいた方には後日、講演資料をお送りいたします。
・お知らせ:光融合技術協会会員企業の方には、技術相談窓口を設け、また過去のセミナーの講演資料を会員コーナーにアップロードしております。これを機に是非とも入会お願いいたします。詳しくは次のURLのホームページをご参照お願いいたします。https://www.i-opt.org/ 

 

   

■ お問合せ

(株)サーフテックトランスナショナル代表

一般社団法人光融合技術協会理事

フラウンホーファーFEP日本代表

鈴木巧一

TEL : 090-5757-9981

E-mail: koichisuzuki@surftech.co.jp

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