カテゴリ:応用



【開催:2023年1月13日】オンラインセミナー「光学的応用のためのホットフィラメントCVDダイヤモンド成膜」の開催案内
 (株)サーフテックトランスナショナルは、一般社団法人光融合技術協会及びイノベーションヒルズ(株)との共催で、2023年1月13 日(金)16:00~17:40に、様々な成膜技術や材料、応用製品の開発を行っているフラウンホーファー表面工学・薄膜研究所IST(ドイツ、ブラウンシュバイク市)のダイヤモンドを基本としたシステムと洗浄技術部門の部門長 Dr. Volker Sittingerによる“光学的応用のためのホットフィラメントCVDダイヤモンド成膜“に関するオンラインセミナーを開催します。  都合により、当初予定していた2022年12月1日開催を延期させていただきました。前半でオンラインセミナー初登場のISTの最新の活動状況全体を紹介してもらい、後半で、ダイヤモンドの光学的応用に関しての最新の検討結果をアピールしてもらう予定です。この機会に是非ご聴講ください。

【掲載:2022年7月11日】高速パルススパッタリングの最新応用展開; AlN 系圧電膜からエピ成長Ⅲ族窒化膜へ
フラウンホーファーFEPは20年以上にもわたって高速反応性パルスマグネトロンスパッタリングによる酸化膜や窒化膜の作成技術開発において世界をリードしてきた。そして、最近の光学およびオプトエレクトロニクス用高品質膜の需要増に合せ、高度C軸配向AlN膜やAlScN膜、近赤外および赤外域の光学フィルター向けの高屈折率膜(a-Si:H他)などの作成技術の開発を進めてきた1)。そこから次の技術進化としてスパッタエピタキシー技術の検討を開始した。GaNに代表されるⅢ族窒化物パワーエレクロニクスが、大量消費市場へ移行しつつある中、製造メーカーはエピタキシー成膜のコスト低減と生産性向上を望んでいるが、現行のOMVPE(有機金属気相エピタキシー)では、対応が難しくなりつつある。そのような状況下、FEPはスパッタエピタキシーによるⅢ族窒化膜の大面積・低コスト・量産技術の実現を目指している。ここでは、それらの最新開発状況を紹介する。